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微氮硅单晶中的空洞型原生缺陷

余学功 杨德仁 马向阳 李立本 阙端麟

半导体学报2002,Vol.23Issue(12):1286-1290,5.
半导体学报2002,Vol.23Issue(12):1286-1290,5.

微氮硅单晶中的空洞型原生缺陷

Vacancy-Type Defects in Nitrogen-Doped Silicon

余学功 1杨德仁 1马向阳 1李立本 1阙端麟1

作者信息

  • 1. 浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027
  • 折叠

摘要

关键词

直拉硅/掺氮/空洞型缺陷

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

余学功,杨德仁,马向阳,李立本,阙端麟..微氮硅单晶中的空洞型原生缺陷[J].半导体学报,2002,23(12):1286-1290,5.

基金项目

国家自然科学基金重点资助项目(批准号:50032010) (批准号:50032010)

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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