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脉冲激光沉积CuF2薄膜的电化学性能

张华 周永宁 吴晓京 傅正文

物理化学学报2008,Vol.24Issue(7):1287-1291,5.
物理化学学报2008,Vol.24Issue(7):1287-1291,5.

脉冲激光沉积CuF2薄膜的电化学性能

Electrochemical Properties of CuF2 Films Fabricated by Pulsed Laser Deposition

张华 1周永宁 2吴晓京 1傅正文2

作者信息

  • 1. 复旦大学化学系激光化学研究所,上海市分子催化和功能材料重点实验室
  • 2. 复旦大学材料科学系,上海,200433
  • 折叠

摘要

关键词

CuF2/薄膜/脉冲激光沉积/锂离子电池

分类

化学化工

引用本文复制引用

张华,周永宁,吴晓京,傅正文..脉冲激光沉积CuF2薄膜的电化学性能[J].物理化学学报,2008,24(7):1287-1291,5.

基金项目

国家自然科学基金(20773031)、国家基础研究重大项目计划(973)(2007CB209702)和国家863基金项目(2007AA03Z322)资助 (20773031)

物理化学学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-6818

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