| 注册
首页|期刊导航|电化学|电沉积硅烷分子印迹膜修饰电极的制备及其应用

电沉积硅烷分子印迹膜修饰电极的制备及其应用

王桂林 王荣 吴霞琴 章宗穰

电化学2008,Vol.14Issue(2):130-134,5.
电化学2008,Vol.14Issue(2):130-134,5.

电沉积硅烷分子印迹膜修饰电极的制备及其应用

Electrodeposition of Sol-gel Imprinted Films Modified Electrode and its Application for 3,4-Dihydroxybenzoic Acids Determination

王桂林 1王荣 1吴霞琴 1章宗穰1

作者信息

  • 1. 上海师范大学生命与环境科学学院化学系,上海,200234
  • 折叠

摘要

关键词

3,4-二羟基苯甲酸/2,4-二羟基苯甲酸/分子印迹技术/硅溶胶-凝胶分子印迹膜/修饰电极

分类

化学化工

引用本文复制引用

王桂林,王荣,吴霞琴,章宗穰..电沉积硅烷分子印迹膜修饰电极的制备及其应用[J].电化学,2008,14(2):130-134,5.

基金项目

国家自然科学基金(20503016)、上海市科委启明星计划(07QA14044)资助 (20503016)

电化学

OA北大核心CSCDCSTPCD

1006-3471

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文