可再生能源Issue(3)：13-15,3.
低温快速热退火晶化制备多晶硅薄膜
Preparing polycrystalline silion thin film by rapid thermal annealing(RTA) at lower temperature
王红娟 1卢景霄 1刘萍 1王生钊 1张宇翔 1张丽伟 1陈永生2
作者信息
- 1. 郑州大学,教育部材料物理重点实验室,河南,郑州,450052
- 2. 新乡师范高等专科学校,河南,新乡,453000
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摘要
关键词
快速热退火/非晶硅薄膜/暗电导分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
王红娟,卢景霄,刘萍,王生钊,张宇翔,张丽伟,陈永生..低温快速热退火晶化制备多晶硅薄膜[J].可再生能源,2006,(3):13-15,3.
