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Si基GaN外延层光致发光光谱与二次离子质谱的研究

张昊翔 卢焕明 叶志镇 赵炳辉 汪雷 阙端麟

ACTA PHYSICA SINICAIssue(7)：1315-1319,5.
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ACTA PHYSICA SINICAIssue(7)：1315-1319,5.

Si基GaN外延层光致发光光谱与二次离子质谱的研究

张昊翔 1卢焕明 1叶志镇 2赵炳辉 2汪雷 2阙端麟2

作者信息

  • 1. 浙江大学硅材料国家重点实验室
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摘要

关键词

氮化镓/外延层/光致发光光谱/二次离子质谱

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

张昊翔,卢焕明,叶志镇,赵炳辉,汪雷,阙端麟..Si基GaN外延层光致发光光谱与二次离子质谱的研究[J].ACTA PHYSICA SINICA,1999,(7):1315-1319,5.

ACTA PHYSICA SINICA

OA北大核心CSCDSCI

1000-3290

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