高电压技术2006，Vol.32Issue(7)：13-16,4.
基于紫外成像技术的极不均匀电场电晕放电
Corona Discharge of the Severe Non-uniform Electric Field Based on the UV-light Imaging Technology
马斌 1周文俊 1汪涛 2丁一工2
作者信息
- 1. 武汉大学电气工程学院,武汉,430072
- 2. 湖北省电力试验研究院,武汉,430077
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摘要
关键词
紫外成像技术/工频电压/极不均匀电场/电晕放电/流注放电分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
马斌,周文俊,汪涛,丁一工..基于紫外成像技术的极不均匀电场电晕放电[J].高电压技术,2006,32(7):13-16,4.
