半导体学报2007，Vol.28Issue(8)：1320-1324,5.
适用于超深亚微米光刻仿真的建模和优化
New Modeling and Optimization Method Suitable for UDSM Lithography Simulation
摘要
关键词
光刻建模/版图轮廓/圆极化采样/遗传算法/光学邻近校正分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
沈珊瑚,史峥,谢春蕾,严晓浪..适用于超深亚微米光刻仿真的建模和优化[J].半导体学报,2007,28(8):1320-1324,5.基金项目
国家自然科学基金资助项目(批准号:90207002) （批准号:90207002）
