材料科学与工程学报2009，Vol.27Issue(1)：132-134,3.
N2O等离子体处理对富硅氮化硅薄膜发光的影响
Effect of N2O Plasma Treatment on Luminescence of Silicon-rich Silicon Nitride Films
摘要
关键词
富硅氮化硅/N2O等离子体/光致发光/电致发光分类
数理科学引用本文复制引用
蔡文浩,黄建浩,李东升,杨德仁..N2O等离子体处理对富硅氮化硅薄膜发光的影响[J].材料科学与工程学报,2009,27(1):132-134,3.基金项目
"973计划"基金资助项目(2007CB613403),教育部"长江学者和创新团队发展计划资助"项目(IRT0651) （2007CB613403）
