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808nm激光诱导电化学刻蚀研究

龙芋宏 史铁林 熊良才 韦星 植海深 蒙永祥

桂林工学院学报2009,Vol.29Issue(1):132-135,4.
桂林工学院学报2009,Vol.29Issue(1):132-135,4.

808nm激光诱导电化学刻蚀研究

808 nm Laser-Induced Electrochemical Etching

龙芋宏 1史铁林 2熊良才 2韦星 2植海深 2蒙永祥2

作者信息

  • 1. 桂林电子科技大学,机电工程学院,广西,桂林,541004
  • 2. 华中科技大学,机械科学与工程学院,武汉,430074
  • 折叠

摘要

关键词

激光/电化学/刻蚀//不锈钢

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

龙芋宏,史铁林,熊良才,韦星,植海深,蒙永祥..808nm激光诱导电化学刻蚀研究[J].桂林工学院学报,2009,29(1):132-135,4.

基金项目

国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716207) (2003CB716207)

国家自然科学基金资助项目(50575078,50405033) (50575078,50405033)

桂林工学院学报

OA北大核心CSTPCD

1674-9057

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