半导体学报2006，Vol.27Issue(7)：1331-1334,4.
降低硅片表面微粗糙度的预氧化清洗工艺
A Pre-Oxidation Cleaning Process to Decrease the Microroughess of Si Wafer Surfaces
摘要
关键词
预氧化/氧化层/各向异性腐蚀/微粗糙度分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
库黎明,王敬,周旗钢..降低硅片表面微粗糙度的预氧化清洗工艺[J].半导体学报,2006,27(7):1331-1334,4.基金项目
国家高技术研究发展计划资助项目(批准号:2002AA3Z1110) （批准号:2002AA3Z1110）
