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磁控溅射Mo薄膜电阻率的原位研究

季航赵特秀王晓平董翊

ACTA PHYSICA SINICAIssue(8)：1340-1345,6.

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ACTA PHYSICA SINICAIssue(8)：1340-1345,6.

磁控溅射Mo薄膜电阻率的原位研究

季航 ¹赵特秀 ¹王晓平 ¹董翊¹

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摘要

关键词

钼/薄膜/电阻率/磁控溅射/原位

分类

数理科学

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季航,赵特秀,王晓平,董翊..磁控溅射Mo薄膜电阻率的原位研究[J].ACTA PHYSICA SINICA,1993,(8):1340-1345,6.

ACTA PHYSICA SINICA

OA北大核心CSCD

ISSN：1000-3290

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