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脉冲激光沉积法在SiO2/Si衬底上生长c轴取向LiTaO3薄膜

王新昌 叶志镇 曹亮亮 赵炳辉

人工晶体学报2007,Vol.36Issue(1):134-137,145,5.
人工晶体学报2007,Vol.36Issue(1):134-137,145,5.

脉冲激光沉积法在SiO2/Si衬底上生长c轴取向LiTaO3薄膜

C-axis Oriented LiTaO3 Thin Film Prepared on SiO2/Si Substrate by Pulsed Laser Deposition

王新昌 1叶志镇 2曹亮亮 2赵炳辉2

作者信息

  • 1. 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州,450052
  • 2. 浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027
  • 折叠

摘要

关键词

LiTaO3薄膜/SiO2/Si衬底/c轴取向/脉冲激光沉积

分类

数理科学

引用本文复制引用

王新昌,叶志镇,曹亮亮,赵炳辉..脉冲激光沉积法在SiO2/Si衬底上生长c轴取向LiTaO3薄膜[J].人工晶体学报,2007,36(1):134-137,145,5.

基金项目

国家自然科学基金重大研究规划项目资助(No.90101009) (No.90101009)

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

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