应用化学2007，Vol.24Issue(2)：134-138,5.
新型玻璃刻蚀用光刻胶的研制
A New Photoresist For Glass Etching
巫文强 1柯旭 1黄晔 1王跃川1
作者信息
- 1. 高分子材料工程国家重点实验室,四川大学高分子工程与工程学院,成都,610065
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摘要
关键词
玻璃刻蚀/光刻胶/掩膜/超支化聚酯分类
化学化工引用本文复制引用
巫文强,柯旭,黄晔,王跃川..新型玻璃刻蚀用光刻胶的研制[J].应用化学,2007,24(2):134-138,5.基金项目
国家教育部骨干教师计划资助项目(20006511) （20006511）
