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缓冲层对LBO晶体上1 064 nm,532 nm增透膜附着力的影响

谭天亚 吴炜 郭永新 邵建达 范正修

强激光与粒子束2009,Vol.21Issue(9):1343-1346,4.
强激光与粒子束2009,Vol.21Issue(9):1343-1346,4.

缓冲层对LBO晶体上1 064 nm,532 nm增透膜附着力的影响

Influence of buffer layer on adhesion of 1 064 nm, 532 nm frequency-doubled antireflection coating to LBO crystal

谭天亚 1吴炜 2郭永新 1邵建达 2范正修1

作者信息

  • 1. 辽宁大学,物理学院,沈阳,110036
  • 2. 沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室,沈阳,110036
  • 折叠

摘要

关键词

二倍频增透膜/LBO晶体/附着力/缓冲层

分类

数理科学

引用本文复制引用

谭天亚,吴炜,郭永新,邵建达,范正修..缓冲层对LBO晶体上1 064 nm,532 nm增透膜附着力的影响[J].强激光与粒子束,2009,21(9):1343-1346,4.

基金项目

沈阳市科技计划项目(1071115-1-00)、辽宁省教育厅科研计划项目(2008224) (1071115-1-00)

辽宁省科技厅科研计划项目(20081030) (20081030)

强激光与粒子束

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4322

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