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高速沉积微晶硅薄膜光发射谱的研究

韩晓艳 赵颖 耿新华 侯国付 张晓丹 李贵君 袁育杰 魏长春 孙建 张德坤

物理学报2009，Vol.58Issue(2)：1344-1347,4.
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物理学报2009，Vol.58Issue(2)：1344-1347,4.

高速沉积微晶硅薄膜光发射谱的研究

An optical emission spectroscopy study on the high rate growth of microcrystalline silicon films

韩晓艳 1赵颖 1耿新华 1侯国付 1张晓丹 1李贵君 1袁育杰 1魏长春 1孙建 1张德坤1

作者信息

  • 1. 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071
  • 折叠

摘要

关键词

高速沉积,微晶硅薄膜,电子温度

分类

数理科学

引用本文复制引用

韩晓艳,赵颖,耿新华,侯国付,张晓丹,李贵君,袁育杰,魏长春,孙建,张德坤..高速沉积微晶硅薄膜光发射谱的研究[J].物理学报,2009,58(2):1344-1347,4.

基金项目

国家重点基础研究发展计划(批准号:2006CB202602,2006CB202603)、国家自然科学基金(批准号:60506003)和国家科技计划配套项目(批准号:07QTPTJC29500)资助的课题. （批准号:2006CB202602,2006CB202603）

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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