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Si/SiGe/Si-SOI异质结构的同步辐射双晶貌相术和高分辨三轴晶X射线衍射

马通达 屠海令 胡广勇 邵贝羚 刘安生

半导体学报2005,Vol.26Issue(7):1359-1363,5.
半导体学报2005,Vol.26Issue(7):1359-1363,5.

Si/SiGe/Si-SOI异质结构的同步辐射双晶貌相术和高分辨三轴晶X射线衍射

Si/SiGe/Si-SOI by Synchrotron Radiation Double-Crystal Topography and High-Resolution Triple-Axis X-Ray Diffraction

马通达 1屠海令 1胡广勇 2邵贝羚 2刘安生2

作者信息

  • 1. 北京有色金属研究总院,国家半导体材料工程研究中心,北京,100088
  • 2. 北京有色金属研究总院,国家有色金属及电子材料分析检测中心,北京,100088
  • 折叠

摘要

关键词

同步辐射双晶貌相术/高分辨三轴晶X射线衍射/衍射双峰

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

马通达,屠海令,胡广勇,邵贝羚,刘安生..Si/SiGe/Si-SOI异质结构的同步辐射双晶貌相术和高分辨三轴晶X射线衍射[J].半导体学报,2005,26(7):1359-1363,5.

半导体学报

OA北大核心CSCD

1674-4926

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