物理学报2006，Vol.55Issue(3)：1363-1368,6.
微波ECR等离子体增强磁控溅射制备SiNx薄膜及其性能分析
Characterization of silicon nitride films prepared by MW-ECR magnetron sputtering
摘要
关键词
SiNx/磁控溅射/傅里叶变换红外吸收光谱/X射线电子谱分类
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丁万昱,徐军,李艳琴,朴勇,高鹏,邓新绿,董闯..微波ECR等离子体增强磁控溅射制备SiNx薄膜及其性能分析[J].物理学报,2006,55(3):1363-1368,6.基金项目
国家自然科学基金重大项目(批准号:50390060)资助的课题. （批准号:50390060）
