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空腔铜靶的化学镀制研究

万小波 张林 周兰 肖江

强激光与粒子束2005,Vol.17Issue(9):1373-1376,4.
强激光与粒子束2005,Vol.17Issue(9):1373-1376,4.

空腔铜靶的化学镀制研究

Study of electroless plating for copper hohlraum fabrication

万小波 1张林 1周兰 1肖江1

作者信息

  • 1. 中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
  • 折叠

摘要

关键词

化学镀铜/镀速/镀液稳定性

分类

化学化工

引用本文复制引用

万小波,张林,周兰,肖江..空腔铜靶的化学镀制研究[J].强激光与粒子束,2005,17(9):1373-1376,4.

基金项目

国家863计划项目资助课题 ()

强激光与粒子束

OA北大核心CSCD

1001-4322

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