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线形拟合在X射线衍射研究GaN薄膜材料结构时的必要性

陈志涛 徐科 杨志坚 苏月永 潘尧波 杨学林 张酣 张国义

半导体学报2006,Vol.27Issue(8):1378-1381,4.
半导体学报2006,Vol.27Issue(8):1378-1381,4.

线形拟合在X射线衍射研究GaN薄膜材料结构时的必要性

Necessity of Profile-Fitting when Using X-Ray Diffraction to Analyze GaN Thin Films

陈志涛 1徐科 1杨志坚 1苏月永 1潘尧波 1杨学林 1张酣 1张国义1

作者信息

  • 1. 北京大学物理学院,人工微结构和介观物理国家重点实验室,北京大学宽禁带半导体研究中心,北京,100871
  • 折叠

摘要

关键词

高分辨XRD/摇摆曲线/穿透位错

分类

数理科学

引用本文复制引用

陈志涛,徐科,杨志坚,苏月永,潘尧波,杨学林,张酣,张国义..线形拟合在X射线衍射研究GaN薄膜材料结构时的必要性[J].半导体学报,2006,27(8):1378-1381,4.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(批准号:60376005) (批准号:60376005)

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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