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基于SOI材料的刻蚀光栅分波器的制作工艺

王文辉 唐衍哲 戈肖鸿 吴亚明 杨建义 王跃林

半导体学报2005，Vol.26Issue(1)：138-142,5.
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半导体学报2005，Vol.26Issue(1)：138-142,5.

基于SOI材料的刻蚀光栅分波器的制作工艺

Process of Etched-Grating Demultiplexer Based on Silicon-on-Insulator

王文辉 1唐衍哲 2戈肖鸿 1吴亚明 1杨建义 1王跃林2

作者信息

  • 1. 中国科学院上海微系统与信息技术研究所,传感技术国家重点实验室,上海,200050
  • 2. 浙江大学信息与电子工程学系,杭州,310027
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摘要

关键词

刻蚀光栅/波导镜/电感耦合等离子体刻蚀/绝缘材料上的硅/分波器

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

王文辉,唐衍哲,戈肖鸿,吴亚明,杨建义,王跃林..基于SOI材料的刻蚀光栅分波器的制作工艺[J].半导体学报,2005,26(1):138-142,5.

基金项目

国家重点基础研究发展规划资助项目(批准号:G1999033104) （批准号:G1999033104）

半导体学报

OA北大核心CSCD

1674-4926

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