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超深亚微米LDD nMOSFET中的非幸运电子模型效应

杨林安 于春利 郝跃

半导体学报2005,Vol.26Issue(7):1390-1395,6.
半导体学报2005,Vol.26Issue(7):1390-1395,6.

超深亚微米LDD nMOSFET中的非幸运电子模型效应

Nonlucky Electron Model Effect in Ultra-Deep Submicro LDD nMOSFETs

杨林安 1于春利 1郝跃1

作者信息

  • 1. 西安电子科技大学微电子所,西安,710071
  • 折叠

摘要

关键词

LDD/nMOSFET/热载流子退化/沟道热载流子应力/漏雪崩热载流子应力/幸运电子模型

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

杨林安,于春利,郝跃..超深亚微米LDD nMOSFET中的非幸运电子模型效应[J].半导体学报,2005,26(7):1390-1395,6.

基金项目

国家自然科学基金(批准号:60376024)和国家高科技研究发展计划(批准号:2003AA1Z1630)资助项目 (批准号:60376024)

半导体学报

OA北大核心CSCD

1674-4926

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