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高质量InAs单晶材料的制备及其性质

赵有文 孙文荣 段满龙 董志远 杨子祥 吕旭如 王应利

半导体学报2006,Vol.27Issue(8):1391-1395,5.
半导体学报2006,Vol.27Issue(8):1391-1395,5.

高质量InAs单晶材料的制备及其性质

Growth and Properties of High Quality InAs Single Crystals

赵有文 1孙文荣 1段满龙 1董志远 1杨子祥 1吕旭如 1王应利1

作者信息

  • 1. 中国科学院半导体研究所,北京,100083
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摘要

关键词

砷化铟/掺杂/抛光

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

赵有文,孙文荣,段满龙,董志远,杨子祥,吕旭如,王应利..高质量InAs单晶材料的制备及其性质[J].半导体学报,2006,27(8):1391-1395,5.

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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