物理化学学报2004，Vol.20Issue(12)：1399-1403,5.
三甲基氯硅烷对纳米多孔二氧化硅薄膜的修饰
Modification of Nanoporous Silica Film by Trimethylchlorosilane
摘要
关键词
纳米多孔SiO2薄膜,溶胶凝胶,三甲基氯硅烷,低介电常数(lowκ)分类
数理科学引用本文复制引用
王娟,张长瑞,冯坚..三甲基氯硅烷对纳米多孔二氧化硅薄膜的修饰[J].物理化学学报,2004,20(12):1399-1403,5.基金项目
国防预研基金(41312040307)资助项目 （41312040307）
