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氢等离子体在铁催石墨化作用下对CVD金刚石膜的刻蚀

满卫东 汪建华 王传新 马志斌 王升高 张宝华

金刚石与磨料磨具工程Issue(5):1-4,9,5.
金刚石与磨料磨具工程Issue(5):1-4,9,5.

氢等离子体在铁催石墨化作用下对CVD金刚石膜的刻蚀

Chemically etching vapor-deposited diamond films by using hydrogen plasma under graphitization effect of iron

满卫东 1汪建华 2王传新 1马志斌 1王升高 2张宝华1

作者信息

  • 1. 武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室,武汉市,430073
  • 2. 中国科学院等离子体物理研究所,合肥市,230031
  • 折叠

摘要

关键词

CVD/金刚石膜/刻蚀/等离子体

分类

化学化工

引用本文复制引用

满卫东,汪建华,王传新,马志斌,王升高,张宝华..氢等离子体在铁催石墨化作用下对CVD金刚石膜的刻蚀[J].金刚石与磨料磨具工程,2006,(5):1-4,9,5.

基金项目

湖北省科技厅攻关计划项目(编号:2002AA105A02) (编号:2002AA105A02)

湖北省教育厅2004年创新团队项目 ()

金刚石与磨料磨具工程

OA北大核心CSTPCD

1006-852X

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