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紫外激光荧光显微成像技术在光学薄膜损伤测试中的应用

高智星 汤秀章

原子能科学技术2008,Vol.42Issue(2):140-143,4.
原子能科学技术2008,Vol.42Issue(2):140-143,4.

紫外激光荧光显微成像技术在光学薄膜损伤测试中的应用

Application of UV Laser Induced Fluorescence Microscopy to Test for Laser Damage of Optical Film

高智星 1汤秀章1

作者信息

  • 1. 中国原子能科学研究院,核技术应用研究所,北京,102413
  • 折叠

摘要

关键词

KrF激光/光学薄膜/荧光/激光损伤

分类

数理科学

引用本文复制引用

高智星,汤秀章..紫外激光荧光显微成像技术在光学薄膜损伤测试中的应用[J].原子能科学技术,2008,42(2):140-143,4.

原子能科学技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-6931

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