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ACTA PHYSICA SINICA
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Ni/NiO界面的高场磁化研究
Ni/NiO界面的高场磁化研究
王文鼐
蒋正生
桑海
程光熙
葛翔
都有为
ACTA PHYSICA SINICA
Issue(1)：140-145,6.
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ACTA PHYSICA SINICA
Issue(1)
：140-145,6.
Ni/NiO界面的高场磁化研究
王文鼐
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蒋正生
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桑海
1
程光熙
1
葛翔
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摘要
关键词
多层膜
/
镍／氧化镍
/
界面
/
磁化强度
分类
数理科学
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王文鼐,蒋正生,桑海,程光熙,葛翔,都有为..Ni/NiO界面的高场磁化研究[J].ACTA PHYSICA SINICA,1996,(1):140-145,6.
ACTA PHYSICA SINICA
OA
北大核心
CSCD
ISSN：
1000-3290
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