低压电器Issue(4)：14-16,3.
脉冲电弧离子源镀膜均匀性的研究
Study on the Deposition Uniformity of Pulsed Arc Ion Source
蔡长龙 1王季梅 1杭凌侠 2严一心 2徐均琪2
作者信息
- 1. 西安交通大学,710049
- 2. 西安工业学院,710032
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摘要
关键词
脉冲电弧/薄膜沉积/均匀性/几何尺寸分类
数理科学引用本文复制引用
蔡长龙,王季梅,杭凌侠,严一心,徐均琪..脉冲电弧离子源镀膜均匀性的研究[J].低压电器,2002,(4):14-16,3.基金项目
陕西省自然科学研究计划基金项目(2000C25) （2000C25）
