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氧化还原电解脱保护DNA在片合成新方法的探讨

王轶文 陈杨 何农跃 陆祖宏 徐吉庆

山东生物医学工程2002,Vol.21Issue(4):14-16,20,4.
山东生物医学工程2002,Vol.21Issue(4):14-16,20,4.

氧化还原电解脱保护DNA在片合成新方法的探讨

In Situ Synthesis of DNA Microarray:Deprotection with Acid by Electrolysis

王轶文 1陈杨 1何农跃 1陆祖宏 1徐吉庆2

作者信息

  • 1. 东南大学分子与生物分子电子学教育部重点实验室,南京,210096
  • 2. 南京益来基因医学有限公司,南京,210016
  • 折叠

摘要

关键词

基因芯片/在片合成/氧化还原/循环伏安/色质联用/脱保护

分类

医药卫生

引用本文复制引用

王轶文,陈杨,何农跃,陆祖宏,徐吉庆..氧化还原电解脱保护DNA在片合成新方法的探讨[J].山东生物医学工程,2002,21(4):14-16,20,4.

基金项目

国家863高技术项目(103-13-05-01,101-01-01)、国家重大基础研究项目((G1998051204)、国家自然科学基金(60071001)、教育部"高等学校骨干教师资助计划"和东南大学航科基金资助项目. (103-13-05-01,101-01-01)

山东生物医学工程

1672-6278

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