传感技术学报2006，Vol.19Issue(5)：1459-1461,1465,4.
射频反应溅射制备AlN薄膜的研究
Study of Preparation of AIN Thin Films for FBAR Application by RF Sputtering
摘要
关键词
AlN/压电薄膜/射频反应磁控溅射/择优取向/FBAR分类
数理科学引用本文复制引用
李侃,董树荣,王德苗..射频反应溅射制备AlN薄膜的研究[J].传感技术学报,2006,19(5):1459-1461,1465,4.基金项目
国家自然科学基金资助项目(50172042) （50172042）
