物理学报2003，Vol.52Issue(6)：1465-1468,4.
稳定、优质nc-Si/a-Si:H薄膜的研制和特性分析
Preparation and characterization of the stable nc-Si/a-Si:H films
摘要
关键词
非晶硅/微结构/光致变化分类
数理科学引用本文复制引用
徐艳月,孔光临,张世斌,胡志华,曾湘波,刁宏伟,廖显伯..稳定、优质nc-Si/a-Si:H薄膜的研制和特性分析[J].物理学报,2003,52(6):1465-1468,4.基金项目
国家重点基础研究发展项目(批准号:G2000028201)资助的课题. （批准号:G2000028201）
