SU-8胶深紫外光刻模拟

冯明黄庆安李伟华周再发朱真

半导体学报2007，Vol.28Issue(9)：1465-1470,6.

Simulation of SU-8 Photoresist Profile in Deep UV Lithography

冯明 ¹黄庆安 ¹李伟华 ¹周再发 ¹朱真¹

作者信息

SU-8胶/光刻模拟/显影轮廓

信息技术与安全科学

冯明,黄庆安,李伟华,周再发,朱真..SU-8胶深紫外光刻模拟[J].半导体学报,2007,28(9):1465-1470,6.

国家自然科学基金资助项目(批准号:50325519) （批准号:50325519）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1674-4926

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