物理学报2003，Vol.52Issue(6)：1479-1483,5.
CVD金刚石膜的结构分析
Microscopic structure studies on the diamond films fabricated by chemical vapor deposition method
刘存业 1刘畅2
作者信息
- 1. 西南师范大学物理学系,重庆,400715
- 2. 拉特格斯大学物理与天文学系,美国新泽西,08854
- 折叠
摘要
关键词
金刚石膜/化学气相沉积/x射线掠入射/正电子湮没谱分类
数理科学引用本文复制引用
刘存业,刘畅..CVD金刚石膜的结构分析[J].物理学报,2003,52(6):1479-1483,5.
