物理学报2006，Vol.55Issue(1)：148-154,7.
电子束光刻的邻近效应及其模拟
Simulation of the proximity effect of electron beam lithography
摘要
关键词
电子束光刻/邻近效应/Monte Carlo分类
数理科学引用本文复制引用
孙霞,尤四方,肖沛,丁泽军..电子束光刻的邻近效应及其模拟[J].物理学报,2006,55(1):148-154,7.基金项目
国家自然科学基金(批准号:60306006,10025420,90206009)资助的课题. （批准号:60306006,10025420,90206009）
