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纳米压印抗蚀剂研究进展

霍永恩 贾越 王力元

影像科学与光化学2008，Vol.26Issue(2)：148-156,9.
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影像科学与光化学2008，Vol.26Issue(2)：148-156,9.

纳米压印抗蚀剂研究进展

Progress of the Study on Nanoimprint Resists

霍永恩 1贾越 1王力元1

作者信息

  • 1. 北京师范大学,化学学院,北京,100875
  • 折叠

摘要

关键词

纳米压印/抗蚀剂/成像

分类

化学化工

引用本文复制引用

霍永恩,贾越,王力元..纳米压印抗蚀剂研究进展[J].影像科学与光化学,2008,26(2):148-156,9.

影像科学与光化学

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-0475

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