高等学校化学学报2000，Vol.21Issue(9)：1482-1485,4.
一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究
Image Reversal Techniques with a Water-based Chemical Amplified Photoresist
摘要
关键词
化学增幅/光敏产酸物/阻溶剂/负性光致抗蚀剂/正性光致抗蚀剂分类
化学化工引用本文复制引用
陈明,李元昌,洪啸吟,焦晓明,程爱萍..一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究[J].高等学校化学学报,2000,21(9):1482-1485,4.基金项目
国家自然科学基金(批准号: 59633110, 59773007)资助. （批准号: 59633110, 59773007）
