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周期性多层膜合金化制取的TiNi形状记忆薄膜的室温微结构特征

魏向军 徐清 王天民 贾全杰 王焕华 冯松林

物理学报2006,Vol.55Issue(3):1508-1511,4.
物理学报2006,Vol.55Issue(3):1508-1511,4.

周期性多层膜合金化制取的TiNi形状记忆薄膜的室温微结构特征

Microstructure of TiNi shape memory alloy films made of sputter-deposited Ni/Ti multilayers

魏向军 1徐清 2王天民 2贾全杰 1王焕华 2冯松林2

作者信息

  • 1. 兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000
  • 2. 中国科学院高能物理研究所,北京,100049
  • 折叠

摘要

关键词

相深度分布/形状记忆/TiNi/多层膜

分类

数理科学

引用本文复制引用

魏向军,徐清,王天民,贾全杰,王焕华,冯松林..周期性多层膜合金化制取的TiNi形状记忆薄膜的室温微结构特征[J].物理学报,2006,55(3):1508-1511,4.

基金项目

高能所科技创新项目(批准号:U-513-1)资助的课题. (批准号:U-513-1)

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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