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中温回复下疲劳Cu单晶体驻留滑移带的演变

张修丽 孙晓慧 李明扬

材料工程Issue(1):15-18,4.
材料工程Issue(1):15-18,4.

中温回复下疲劳Cu单晶体驻留滑移带的演变

Evolution of Persistent Slip Bands in Fatigued Copper Single Crystals Under Intermediate Temperature Recovery

张修丽 1孙晓慧 1李明扬2

作者信息

  • 1. 上海工程技术大学,上海201620
  • 2. 东北大学,理学院,沈阳110016
  • 折叠

摘要

关键词

驻留滑移带/中温回复/位错结构演变/疲劳Cu单晶

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

张修丽,孙晓慧,李明扬..中温回复下疲劳Cu单晶体驻留滑移带的演变[J].材料工程,2009,(1):15-18,4.

基金项目

上海高校选拔培养优秀青年教师科研专项基金(05XPYQ36) (05XPYQ36)

材料工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4381

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