理化检验-物理分册2007，Vol.43Issue(1)：15-18,4.
离子束溅射与射频溅射制备的ZnO薄膜的特性分析
THE PROPERTIES COMPARISON BETWEEN ZnO THIN FILMS FABRICATED BY ION BEAM SPUTTERING AND RF MANGNETRON SPUTTERING
摘要
关键词
离子束沉积/射频磁控溅射/结构/形貌分类
通用工业技术引用本文复制引用
顾金宝,李合琴,赵之明..离子束溅射与射频溅射制备的ZnO薄膜的特性分析[J].理化检验-物理分册,2007,43(1):15-18,4.基金项目
安徽省自然科学基金(03044703) （03044703）
