SU-8胶微结构的尺寸公差研究OA北大核心CSCDCSTPCD
Study on Dimensional Tolerance of SU-8 Photoresist Microstructures
对SU-8胶微结构的尺寸及其公差进行了定量研究.在考虑了SU-8的吸收系数和折射系数对紫外光刻尺寸精度影响的基础上,根据菲涅耳衍射理论建立了紫外曝光改进模型和尺寸公差模型,对SU-8微结构的尺寸及其公差进行数值模拟.以硅为基底,进行了SU-8胶紫外光刻的实验研究.实验中掩模的特征宽度分别取50 μm、100μm、200μm和400 μm,SU-8胶表面的曝光剂量分别取400mJ/cm2和800mJ/cm2,测量了SU-8胶微结构的顶部线宽、底部线…查看全部>>
秦江;杜立群;刘冲;朱神渺
大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,大连,116023大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室,大连,116023大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,大连,116023大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室,大连,116023
信息技术与安全科学
SU-8胶菲涅耳衍射尺寸公差紫外光刻
《传感技术学报》 2006 (5)
1523-1526,4
国家863计划重点资助项目(2004 AA404260)
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