| 注册
首页|期刊导航|半导体学报|MOS AlGaN/GaN HEMT研制与特性分析

MOS AlGaN/GaN HEMT研制与特性分析

王冲 岳远征 马晓华 郝跃 冯倩 张进城

半导体学报2008,Vol.29Issue(8):1557-1560,4.
半导体学报2008,Vol.29Issue(8):1557-1560,4.

MOS AlGaN/GaN HEMT研制与特性分析

Development and Characteristic Analysis of MOS AIGaN/GaN HEMTs

王冲 1岳远征 1马晓华 1郝跃 1冯倩 1张进城1

作者信息

  • 1. 西安电子科技大学微电子研究所,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071
  • 折叠

摘要

关键词

高电子迁移率晶体管/AIGaN/GaN/介质栅

分类

电子信息工程

引用本文复制引用

王冲,岳远征,马晓华,郝跃,冯倩,张进城..MOS AlGaN/GaN HEMT研制与特性分析[J].半导体学报,2008,29(8):1557-1560,4.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(批准号:60736033) (批准号:60736033)

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文