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在CH4-H2微波等离子体中添加H2O对大面积金刚石膜生长的研究

满卫东 汪建华 王传新 马志斌 王升高 刘远勇

金刚石与磨料磨具工程Issue(6):16-19,4.
金刚石与磨料磨具工程Issue(6):16-19,4.

在CH4-H2微波等离子体中添加H2O对大面积金刚石膜生长的研究

Effects of water addition to the CH4-H2 feed gas on large-area diamond deposition by microwave plasma

满卫东 1汪建华 2王传新 1马志斌 1王升高 2刘远勇1

作者信息

  • 1. 武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室,武汉,430073
  • 2. 中国科学院等离子体物理研究所,合肥,230031
  • 折叠

摘要

关键词

金刚石膜/微波/化学气相沉积/生长

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

满卫东,汪建华,王传新,马志斌,王升高,刘远勇..在CH4-H2微波等离子体中添加H2O对大面积金刚石膜生长的研究[J].金刚石与磨料磨具工程,2005,(6):16-19,4.

金刚石与磨料磨具工程

OA北大核心

1006-852X

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