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用于SiGe HBT器件的UHV/CVDn-型硅外延研究

黄文韬 陈长春 李希有 沈冠豪 张伟 刘志弘 陈培毅 钱佩信

半导体学报2004,Vol.25Issue(12):1666-1671,6.
半导体学报2004,Vol.25Issue(12):1666-1671,6.

用于SiGe HBT器件的UHV/CVDn-型硅外延研究

UHV/CVD n--Type Silicon Epitaxy Used for SiGe HBT Device

黄文韬 1陈长春 1李希有 1沈冠豪 1张伟 1刘志弘 1陈培毅 1钱佩信1

作者信息

  • 1. 清华大学微电子学研究所,北京,100084
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摘要

关键词

UHV/CVD/硅外延/杂质分布/SiGe/HBT

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

黄文韬,陈长春,李希有,沈冠豪,张伟,刘志弘,陈培毅,钱佩信..用于SiGe HBT器件的UHV/CVDn-型硅外延研究[J].半导体学报,2004,25(12):1666-1671,6.

基金项目

国家高技术研究发展计划资助项目(批准号:2002AA3Z1230) (批准号:2002AA3Z1230)

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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