物理学报2003，Vol.52Issue(1)：169-174,6.
氢化非晶硅薄膜中氢含量及键合模式的红外分析
Infrared analysis on hydrogen content and Si-H bonding configurations of hydrogenated amorphous silicon films
摘要
关键词
氢化非晶硅薄膜,红外吸收谱,氢含量/硅-氢键合模式分类
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罗志,林璇英,林舜辉,余楚迎,林揆训,余云鹏,谭伟锋..氢化非晶硅薄膜中氢含量及键合模式的红外分析[J].物理学报,2003,52(1):169-174,6.基金项目
国家重点基础研究发展规划项目(批准号:G2000028200)资助的课题. （批准号:G2000028200）
