|
国家科技期刊平台
|
注册
中文
EN
首页
|
期刊导航
|
陶瓷
|
无压烧结碳化硅研究进展
无压烧结碳化硅研究进展
王静
张玉军
龚红宇
陶瓷
Issue(4):17-19,50,4.
下载
✕
陶瓷
Issue(4)
:17-19,50,4.
无压烧结碳化硅研究进展
The Development of Pressureless-sintered Silicon Carbide
王静
1
张玉军
1
龚红宇
1
作者信息
1.
山东大学材料科学与工程学院,济南,250061
折叠
摘要
关键词
碳化硅
/
无压烧结
/
烧结助剂
/
烧结温度
分类
化学化工
引用本文
复制引用
王静,张玉军,龚红宇..无压烧结碳化硅研究进展[J].陶瓷,2008,(4):17-19,50,4.
陶瓷
ISSN:
1002-2872
下载
访问量
0
|
下载量
0
段落导航
相关论文
摘要
关键词
分类
引用文本