原子与分子物理学报2006，Vol.23Issue(1)：173-176,4.
掺钇二氧化锆薄膜制备及其特性测量
Preparation and character measurements of Y2O3-doped ZrO2 films
任树喜 1马洪良 2徐国庆 2高召顺 2周炯 2张义炳2
作者信息
- 1. 河北工业大学理学院,天津,300130
- 2. 上海大学物理系,上海,200436
- 折叠
摘要
关键词
电子束蒸发/掺钇氧化锆薄膜/退火温度/透射率分类
数理科学引用本文复制引用
任树喜,马洪良,徐国庆,高召顺,周炯,张义炳..掺钇二氧化锆薄膜制备及其特性测量[J].原子与分子物理学报,2006,23(1):173-176,4.
