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硅片抛光工艺质量微细差别的椭偏光谱法鉴别

陈哉 钱佑华

半导体学报Issue(2)：175,1.
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半导体学报Issue(2)：175,1.

硅片抛光工艺质量微细差别的椭偏光谱法鉴别

陈哉 1钱佑华1

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陈哉,钱佑华..硅片抛光工艺质量微细差别的椭偏光谱法鉴别[J].半导体学报,1988,(2):175,1.

半导体学报

OACSCD

1674-4926

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