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PZT铁电场效应晶体管电学性能

蔡道林 李平 翟亚红 张树人

半导体学报2007,Vol.28Issue(11):1782-1785,4.
半导体学报2007,Vol.28Issue(11):1782-1785,4.

PZT铁电场效应晶体管电学性能

Electrical Properties of a PZT Ferroelectric Field Effect Transistor

蔡道林 1李平 1翟亚红 1张树人1

作者信息

  • 1. 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054
  • 折叠

摘要

关键词

磁控溅射/MFMIS/铁电场效应晶体管/存储窗口

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

蔡道林,李平,翟亚红,张树人..PZT铁电场效应晶体管电学性能[J].半导体学报,2007,28(11):1782-1785,4.

基金项目

国家重点基础研究发展规划资助项目(批准号 ()

51310z) ()

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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