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高温退火对非晶CNx薄膜场发射特性的影响

李俊杰 郑伟涛 卞海蛟 吕宪义 姜志刚 白亦真 金曾孙 赵永年

物理学报2003，Vol.52Issue(7)：1797-1801,5.
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物理学报2003，Vol.52Issue(7)：1797-1801,5.

高温退火对非晶CNx薄膜场发射特性的影响

The effect of annealing on the field emission properties of amorphous CNx films

李俊杰 1郑伟涛 2卞海蛟 3吕宪义 3姜志刚 1白亦真 1金曾孙 1赵永年1

作者信息

  • 1. 吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春,130023
  • 2. 延边大学理工学院,延吉,133002
  • 3. 吉林大学材料科学与工程学院,长春,130023
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摘要

关键词

CNx薄膜/化学键合/退火温度/场致电子发射

分类

数理科学

引用本文复制引用

李俊杰,郑伟涛,卞海蛟,吕宪义,姜志刚,白亦真,金曾孙,赵永年..高温退火对非晶CNx薄膜场发射特性的影响[J].物理学报,2003,52(7):1797-1801,5.

基金项目

国家教育部高等学校青年教师奖(批准号:2002-359)和高等学校博士学科点专项科研基金(批准号:20020183034)资助的课题. （批准号:2002-359）

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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