物理学报2005，Vol.54Issue(4)：1809-1813,5.
磁控溅射法制备的CaCu3Ti4O12薄膜
CaCu3Ti4O12 films prepared by magnetron sputtering
周小莉 1杜丕一2
作者信息
- 1. 台州学院物理系,临海,317000
- 2. 浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027
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摘要
关键词
磁控溅射,CaCu3Ti4O12,介电常数,激活能分类
数理科学引用本文复制引用
周小莉,杜丕一..磁控溅射法制备的CaCu3Ti4O12薄膜[J].物理学报,2005,54(4):1809-1813,5.
