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深亚微米pMOS器件的HCI和NBTI耦合效应与物理机制

刘红侠 郝跃

半导体学报2005,Vol.26Issue(9):1813-1817,5.
半导体学报2005,Vol.26Issue(9):1813-1817,5.

深亚微米pMOS器件的HCI和NBTI耦合效应与物理机制

Couple Effects and Physical Mechanism of HCI and NBTI in Deep Submicron pMOSFET's

刘红侠 1郝跃1

作者信息

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摘要

关键词

深亚微米pMOS器件/热载流子注入/负偏压温度不稳定性/界面态/氧化层固定正电荷

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

刘红侠,郝跃..深亚微米pMOS器件的HCI和NBTI耦合效应与物理机制[J].半导体学报,2005,26(9):1813-1817,5.

基金项目

国家自然科学基金(批准号:60206006),教育部重点科技研究(批准号:104172),国防重大预研基金(批准号:41308060305)和博士后基金(批准号:Q6312573)资助项目 (批准号:60206006)

半导体学报

OA北大核心CSCD

1674-4926

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